技術(shù)編號(hào)：2793083
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是，特別是一種用于光學(xué)投影曝光微納加工光刻領(lǐng)域中的掩模硅片對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。屬于大面積投影光刻系統(tǒng)及其對(duì)準(zhǔn)方法的改造技術(shù)。背景技術(shù)光刻投影物鏡、掩模硅片對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、激光定位工件臺(tái)并稱(chēng)為投影光刻機(jī)的三大核心部分。由于高密度的印刷電路板布線(xiàn)或者集成電路芯片都需要多次曝光才能制作完成， 即每一次曝光前都需要與前面已曝光的圖形進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)后才能曝光，以保證每次曝光都有正確的相對(duì)位置，簡(jiǎn)稱(chēng)為套刻曝光，而套刻精度正是取決于上述三大核心部件中的掩模硅片對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)精度。掩模硅...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。