技術(shù)編號：2792922
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種光間莫爾條紋焦面檢測方法，實現(xiàn)投影光刻機物鏡和硅片之間距離的實時在線測量，該方法是一種非接觸的快速光學(xué)測量手段，具有結(jié)構(gòu)簡單、測量精度高的特點。自九十年代中期以來，隨著微細(xì)加工光刻技術(shù)的不斷發(fā)展，以集成電路為核心的現(xiàn)代微電子技術(shù)呈加速發(fā)展態(tài)勢，向著更高集成度和超細(xì)微化方向發(fā)展，各種超高密度、高速度的微電子器件不斷出現(xiàn)，促進(jìn)了當(dāng)代數(shù)字技術(shù)革命。投影光刻以其生產(chǎn)率高、易實現(xiàn)高的對準(zhǔn)和套刻精度、掩摸制作相對簡單、工藝條件容易掌握及良好的繼承性，在微...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。