技術(shù)編號(hào)：2791747
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻領(lǐng)域，尤其涉及應(yīng)用于光刻機(jī)的調(diào)焦調(diào)平檢測(cè)裝置。背景技術(shù)投影光刻機(jī)是一種把掩模上的圖案通過投影物鏡投影到硅片表面的設(shè)備。為了使硅片表面位于指定的曝光位置，必須有自動(dòng)調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)進(jìn)行精確控制。目前，ASML、NIK0N.CAN0N公司的自動(dòng)調(diào)焦調(diào)平技術(shù)最具代表性。自動(dòng)調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)一般由光源、光闌、投影分支、檢測(cè)分支、信號(hào)處理單元等部分構(gòu)成，以獲取曝光場(chǎng)內(nèi)硅片表面高度與傾斜信息。通常，自動(dòng)調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)設(shè)計(jì)使用的光源都設(shè)定以最佳功率運(yùn)行、發(fā)出近似恒定...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。