技術(shù)編號(hào)：2786777
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種投影物鏡光學(xué)系統(tǒng)，尤其涉及一種具有大視場(chǎng)、1×放大倍率、寬光譜、物方視場(chǎng)與像方視場(chǎng)平行、折反式結(jié)構(gòu)形式的投影物鏡光學(xué)系統(tǒng)。背景技術(shù) 目前，投影式光刻技術(shù)已在亞微米級(jí)分辨率的集成電路(IC)制造中得到廣泛使用。隨著植金凸塊(Gold-bumping)和其他硅片級(jí)IC封裝技術(shù)的發(fā)展，對(duì)相應(yīng)的低分辨率(如，幾個(gè)微米)、大焦深以及高產(chǎn)率的投影光學(xué)系統(tǒng)的需求日益增加，投影式光刻技術(shù)也逐漸在該領(lǐng)域得到發(fā)展和應(yīng)用。本發(fā)明與美國(guó)專(zhuān)利US 6,879,383(...
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該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。