技術(shù)編號(hào)：2778731
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及連續(xù)面形掩模移動(dòng)光刻曝光裝置，屬于光刻曝光制作任意連續(xù)面形浮雕結(jié)構(gòu)和微透鏡列陣結(jié)構(gòu)。背景技術(shù) 隨著微光學(xué)元件的廣泛應(yīng)用和需求量的大幅增加，迫切需要提高和完善微光學(xué)元件的制作技術(shù)，以提高其質(zhì)量和產(chǎn)量。這就需要有比較完美的方法和相應(yīng)的制作設(shè)備裝置。歸納現(xiàn)有制作微光學(xué)元件和微結(jié)構(gòu)光學(xué)元件的方法主要可分為二類一類是用灰階掩模、光學(xué)光刻、電子束光刻、離子束光刻、激光束直寫等方法制作多臺(tái)階型二元微結(jié)構(gòu)光學(xué)元件。目前大家最常見也最熟悉的微電子集成電路加工工藝技...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。