技術(shù)編號(hào):2778163
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于制造大規(guī)模集成電路及其它微結(jié)構(gòu)元件的微平版印刷(microlithographic)投影曝光裝置。更具體地,本發(fā)明涉及這種裝置的為浸漬操作設(shè)計(jì)的投影物鏡。背景技術(shù) 通常通過(guò)將多個(gè)結(jié)構(gòu)層應(yīng)用在合適的襯底例如硅晶片上來(lái)制造集成電路及其它微結(jié)構(gòu)元件。為了構(gòu)造所述結(jié)構(gòu)層,首先用對(duì)特定波長(zhǎng)范圍內(nèi)的光敏感的光致抗蝕劑(photoresist)覆蓋所述結(jié)構(gòu)層。然后使被這樣覆蓋的晶片在投影曝光裝置內(nèi)曝光。在此操作中,利用投影物鏡使掩模內(nèi)包含的結(jié)構(gòu)圖案在光致抗...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。