技術(shù)編號：2777424
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。相關(guān)申請此申請是2003年7月21日提出的第10/623,180號美國專利申請的部分繼續(xù)申請。將上述申請的整體教示在此引入，以供參考。 背景技術(shù) 總體上講，在使用期間，即使大多數(shù)設備在真空中操作，存在于光刻投影設備中的部件表面也會被污染。特別的是，在光刻投影設備中光學部件(諸如反射鏡)的污染會對設備的性能產(chǎn)生不良影響，這是因為這種污染會影響光學部件的光學性質(zhì)。眾所周知，可以通過吹掃光刻投影設備的空間來減少光刻投影設備的光學部件的污染，依照這種方法，這種部件...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。