技術(shù)編號：2776241
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種光刻投射裝置，它包括-用于提供輻射投射光束的輻射系統(tǒng)；-可編程的構(gòu)圖裝置，包括多個可尋址元件并且能夠依照所需圖案進行設(shè)置；-用于保持基底的基底臺；和-用于將所需圖案傳送到基底靶部的投射系統(tǒng)。背景技術(shù) 光刻投射裝置可以用于例如集成電路(IC)的制造。這種情況下，構(gòu)圖裝置可產(chǎn)生對應(yīng)于IC一個單獨層的電路圖案，該圖案可以在已涂敷輻射敏感材料(抗蝕劑)層的基底(硅片)的靶部(例如包括一個或者多個電路小片(die))上成像。一般的，單一的晶片包含一整個...
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