技術(shù)編號：2776197
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明是有關(guān)于一種制造半導體組件的方法，且特別是有關(guān)于一種使用反光學鄰近效應(yīng)(anti-optical proximity effect，anti-OPE)形成光阻圖案(photoresist pattern)的方法。背景技術(shù) 微影制程是一種用于半導體組件的制作中常見的制程或技術(shù)。通常一個基底或晶圓會被涂上一層光敏材料(light-sensitive material)，如一光阻。使用一個圖案化光罩，將晶圓暴露于射線下而顯露一種光化學效應(yīng)(photoche...
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