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淀積膜形成方法以及裝置的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2775088

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本發(fā)明涉及在支撐體上利用淀積膜特別是功能性淀積膜,特別在半導(dǎo)體器件,電子照相感光體,圖像輸入用的線(xiàn)傳感器,攝像器件,光電元件等中使用的非晶或者多晶等非單晶淀積膜的光接收構(gòu)件的形成中適用的基于等離子體CVD(化學(xué)汽相淀積)法的淀積膜形成方法以及裝置。背景技術(shù) 以往,作為在半導(dǎo)體器件,電子照相用感光體器件,圖像輸入用線(xiàn)傳感器,攝像器件,光電器件,其它各種電子元件,光學(xué)元件等中使用的元件構(gòu)件,提出用非晶硅,例如氫以及/或者鹵素(例如氟,氯等)補(bǔ)償了的非晶硅(a-...
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