技術(shù)編號(hào)：2771456
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明總體上涉及用照相平版印刷和干蝕刻技術(shù)在聚合物中形成微結(jié)構(gòu)。本發(fā)明還涉及制造光學(xué)聚合物波導(dǎo)器件的方法。背景技術(shù)用照相平版印刷和干蝕刻技術(shù)在無(wú)機(jī)和有機(jī)材料中形成微結(jié)構(gòu)微電子、半導(dǎo)體和光子學(xué)領(lǐng)域的技術(shù)人員是非常熟悉的。一般來(lái)說(shuō)，如附圖說(shuō)明圖1所示，在材料中形成微結(jié)構(gòu)包括如下步驟1)用輻射(16)通過(guò)部分屏蔽光致抗蝕劑的光掩模(18)輻照位于基底(14)上的材料(12)上的光致抗蝕劑組合物(10)，使得受輻照的那部分組合物(20)相對(duì)于受屏蔽的那部分組合物(...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。