技術(shù)編號：2762307
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種在半導(dǎo)體的精加工中使用的化學(xué)增強(qiáng)型光刻膠組合物。背景技術(shù) 半導(dǎo)體精力加工使用利用光刻膠組合物的平板印刷工藝。在平板印刷中，理論上，如瑞利衍射極限方程式所表達(dá)的那樣，曝光波長越短，可使分辨率越高。在半導(dǎo)體器件的制造中所使用的用于平板印刷的曝光光源波長逐年變短，例如g線的波長為436nm；i線的波長為365nm；KrF準(zhǔn)分子激光的波長為248nm；和ArF準(zhǔn)分子激光的波長為193nm。波長為157nm的F2準(zhǔn)分子激光似乎有希望作為下一代曝光光源。...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。