技術(shù)編號：2757440
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及顯影裝置、組件和圖像形成裝置。 背景技術(shù)日本未審查的專利申請公開No. 2008-145798披露了如下顯影裝置，該裝置包括限制輥，該限制輥限制附著于顯影輥表面上的顯影劑層的厚度。限制輥被支撐成可沿顯影輥的法線方向移動。發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明旨在保持附著于第一顯影部件上的顯影劑與附著于第二顯影部件上的顯影劑之間的適當(dāng)比率，其中，第一顯影部件以下述方式旋轉(zhuǎn)與圖像載體相對置的部分的移動方向與圖像載體的移動方向相反；第二顯影部件以下述方式旋轉(zhuǎn)與圖像載體相...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。