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光掩膜的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2754278

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體器件的制造領(lǐng)域,特別涉及一種。 背景技術(shù)在半導(dǎo)體器件的制程中,有一個(gè)步驟為光刻。光刻的本質(zhì)就是將電路結(jié)構(gòu)復(fù)制到以后要進(jìn)行刻蝕步驟及離子注入步驟的晶圓上。電路結(jié)構(gòu)首先以1 4或1 5的比例將圖形形式制作在名為光掩膜的石英基板上,光源通過(guò)該光掩膜將圖形轉(zhuǎn)移到晶圓的光刻膠層上,進(jìn)行顯影后,用后續(xù)的刻蝕步驟將圖形成像在晶圓底層薄膜上,或者用后續(xù)的離子注入步驟完成晶圓底層薄膜的圖形區(qū)域可選擇的摻雜。在光刻步驟中,光源通過(guò)光掩膜將圖形復(fù)制到晶圓襯底...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。

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