技術(shù)編號：2753012
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻領(lǐng)域，且特別涉及一種。 背景技術(shù)光刻機中的預(yù)對準(zhǔn)技術(shù)是使掩模在一定精度范圍內(nèi)與物鏡光軸進行預(yù)對準(zhǔn)，包括旋轉(zhuǎn)和水平方向?qū)?zhǔn)，以使得對準(zhǔn)標(biāo)記處于精密對準(zhǔn)系統(tǒng)的捕獲范圍內(nèi)，預(yù)對準(zhǔn)的成功與否以及其效率的高低直接影響著生產(chǎn)效率的高低。專利CNM21670提供了一種硅片預(yù)對準(zhǔn)裝置，該裝置的特點是利用四象限探測器分別采集硅片上兩個標(biāo)記的像，利用每個象限之間能量差值關(guān)系表征硅片的位置信息，這種裝置是光刻機系統(tǒng)中常用的預(yù)對準(zhǔn)方法，可用于掩模預(yù)對準(zhǔn)或硅片預(yù)對準(zhǔn)。...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。