技術(shù)編號(hào)：2751976
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明總體上涉及光刻法，尤其涉及在柔性基材上制造多層電路的光刻法的應(yīng)用。本發(fā)明還涉及相關(guān)的制品、系統(tǒng)和方法。背景技術(shù)以在柔性基材上形成多層或多級(jí)電路走線為特征的柔性電路，已經(jīng)為人所知。例如，參考美國專利申請(qǐng)公開US 2008/0205010 (Haase)。柔性電路是通過如下方法形成的 在柔性基材上一層一層地建立一系列導(dǎo)電層、半導(dǎo)體層的和絕緣層，并用常規(guī)的光刻技術(shù)根據(jù)需要將它們各自圖案化來實(shí)現(xiàn)所需的多層電路設(shè)計(jì)。光刻技術(shù)總體上包括在待圖案化的層上涂布一層光...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。