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為浸沒(méi)光刻提供流體的裝置和方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2740747

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本發(fā)明總體上涉及一種為浸沒(méi)光刻(immersion lithography)提 供流體的系統(tǒng)和方法,更具體地說(shuō),是一種控制流體流量和壓力以便 為浸沒(méi)光刻提供穩(wěn)定條件的系統(tǒng)和方法。背景技術(shù)曝光裝置是一種精密組件,在半導(dǎo)體處理期間,它通常被用于把 圖像從一分劃板轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體晶片上。 一種典型的曝光裝置包括一 照明源; 一分劃板臺(tái)組件,用于保持著一分劃板; 一光學(xué)組件; 一晶 片臺(tái)組件,用于保持著半導(dǎo)體晶片; 一測(cè)量系統(tǒng); 一控制系統(tǒng)。涂敷 有抗蝕劑的晶片被放置...
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