技術(shù)編號(hào):2740747
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明總體上涉及一種為浸沒(méi)光刻(immersion lithography)提 供流體的系統(tǒng)和方法,更具體地說(shuō),是一種控制流體流量和壓力以便 為浸沒(méi)光刻提供穩(wěn)定條件的系統(tǒng)和方法。背景技術(shù)曝光裝置是一種精密組件,在半導(dǎo)體處理期間,它通常被用于把 圖像從一分劃板轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體晶片上。 一種典型的曝光裝置包括一 照明源; 一分劃板臺(tái)組件,用于保持著一分劃板; 一光學(xué)組件; 一晶 片臺(tái)組件,用于保持著半導(dǎo)體晶片; 一測(cè)量系統(tǒng); 一控制系統(tǒng)。涂敷 有抗蝕劑的晶片被放置...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。