技術(shù)編號(hào)：2739521
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于構(gòu)筑有序微結(jié)構(gòu)，具體涉及一種用微米級(jí)模板構(gòu)筑亞微 米或納米級(jí)模板的方法。背景技術(shù)二維的微米或亞微米表面圖案的構(gòu)筑在材料科學(xué)、微電子學(xué)、超分子化學(xué)、 生物化學(xué)等領(lǐng)域都有重要的應(yīng)用價(jià)值。這種二維的微米或亞微米表面圖案的構(gòu)筑 可通過多種途徑來實(shí)現(xiàn)，如微接觸印刷法、光刻技術(shù)、電子束刻蝕技術(shù)、聚焦離 子束刻蝕技術(shù)、納米壓印技術(shù)等。納米壓印技術(shù)(NIL)是由Stephen Y. Chou于1995年首先提出的(Appl. Phys. Lett. 1995,6...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。