技術(shù)編號：2738216
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明總體涉及微光刻投射曝光設(shè)備中用于照明掩模的照明系統(tǒng)。更具體地，本 發(fā)明涉及這樣的系統(tǒng)，其包括可以實現(xiàn)為微機電系統(tǒng)(MEMS)的反射元件陣列。背景技術(shù)微光刻(也稱作光學(xué)光刻或僅稱作光刻)是用于制作集成電路、液晶顯示器和其 它的微結(jié)構(gòu)裝置的技術(shù)。更具體地，與蝕刻工藝相結(jié)合的微光刻的工藝用于構(gòu)圖形成于基 底(例如，硅晶片)上的薄膜疊層中的特征。當(dāng)制作每一層時，首先晶片被涂覆以光刻膠， 該光刻膠為對諸如超紫外(DUV)光的輻射敏感的材料。之后，在頂部具有光刻...
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