技術(shù)編號：2725585
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。正性干膜光致抗蝕劑(photoresist)包含至少兩種溶劑并且具有優(yōu)異的 物理性質(zhì)，比如高的膠片速度(或光敏速度)、顯影對比度、靈敏度、分辨 率和/或?qū)σr底的粘附。背景技術(shù)光致抗蝕劑和光致抗蝕劑膜被用于制備高度集成的半導(dǎo)體比如集成電 路(IC);印刷電路版(PCB)和電子顯示器件如陰極射線管(CRT)、彩色液晶 顯示器(LCD)和有機(jī)電致發(fā)光顯示器(EL或ELD)。這些器件的制備方法采 用光刻法和光制備技術(shù)。光致抗蝕劑膜需要足以形成具有非常細(xì)的線和不 大...
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