技術編號：2719695
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型提供一種用于曝光工藝的掩模臺，所述掩模臺至少包括結(jié)構(gòu)底座；設置于所述底座上且用來支撐定位光掩模X方向的第一定位件；設置于所述底座上且用來支撐定位光掩模Y方向的第二定位件；所述第一定位件為真空夾具，所述真空夾具設置于所述光掩模兩側(cè)的下表面；所述第二夾持件為設置在光掩模Y方向上兩側(cè)的若干對機械夾具。本實用新型通過在光掩模Y方向上設置若干對機械夾具對所述光掩模進行限制，避免光掩模沿Y方向發(fā)生熱膨脹導致圖形疊加錯誤。專利說明—種用于曝光的掩模臺[0001...
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