技術(shù)編號(hào)：2714166
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于微光刻投射照明的設(shè)備(10)、用于檢查基底(20)的表面的設(shè)備(110)及其相關(guān)方法。一種用于微光刻投射曝光的設(shè)備(10)，包括光學(xué)系統(tǒng)(18)，用于通過(guò)利用成像輻射(15)投射掩模結(jié)構(gòu)(16)而將所述掩模結(jié)構(gòu)(16)成像到基底(20)的表面(21)上，所述光學(xué)系統(tǒng)(18)具有至少一個(gè)反射光學(xué)元件(22)；以及測(cè)量光束路徑(36)，用于引導(dǎo)測(cè)量輻射(34)，所述測(cè)量光束路徑(36)在所述光學(xué)系統(tǒng)(18)內(nèi)延伸，使得在所述設(shè)備(10)的操作...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。