技術(shù)編號(hào)：2711814
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種掩模板，用以提供一種新型結(jié)構(gòu)的掩模板，避免掩模板上因靜電釋放而破壞掩模板上掩模圖形的問題。所述掩模板包括襯底，以及位于所述襯底上的透光區(qū)域和遮光區(qū)域，所述遮光區(qū)域設(shè)置有至少兩個(gè)分別具有設(shè)定掩模圖形且可導(dǎo)電的遮光層，還包括一個(gè)或多個(gè)分別用于電連接至少兩個(gè)所述遮光層的連接線，所述連接線的寬度為0.3～1.5μm。專利說明一種掩模板[0001]本發(fā)明涉及顯示，尤其涉及一種掩模板。背景技術(shù)[0002]在顯示，掩模板作為半導(dǎo)體顯示行業(yè)非常重要的構(gòu)圖工...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。