技術(shù)編號(hào)：2711077
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供了一種光刻系統(tǒng)。該光刻系統(tǒng)包括配置為使用固定在掩模臺(tái)上的掩模實(shí)施光刻曝光工藝的曝光模塊；以及集成在曝光模塊中并且設(shè)計(jì)為使用吸附機(jī)構(gòu)清洗掩模和掩模臺(tái)中的至少一個(gè)的清洗模塊。本發(fā)明還提供了具有嵌入式清洗模塊的光刻系統(tǒng)。專利說明具有嵌入式清洗模塊的光刻系統(tǒng)[0001]相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用[0002]本申請(qǐng)要求于2013年03月15日提交的標(biāo)題為“一種具有嵌入式清洗模塊的EUV 掃描器(AN EUV SCANNER WITH EMBEDDED CLEANI...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。