技術(shù)編號：2703682
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種光刻膠曝光裝置，包括掩模板、反射金屬薄膜和光束發(fā)生裝置，掩模板的透光部分為光柵，曝光時(shí)，掩模板位于涂敷有光刻膠的基板的正上方，反射金屬薄膜置于基板上與光柵對應(yīng)的位置處，光束發(fā)生裝置產(chǎn)生的曝光光束透過掩模板上的光柵均勻的直射到基板上的光刻膠上，實(shí)現(xiàn)光刻膠的曝光，同時(shí)，反射金屬薄膜的邊緣對照射到其上的曝光光束產(chǎn)生散射。采用本發(fā)明的光刻膠曝光裝置進(jìn)行光刻膠曝光時(shí)，正性光刻膠可以產(chǎn)生邊緣與基板表面成銳角的光刻膠圖案，負(fù)性光刻膠可以產(chǎn)生邊緣與基板表面...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。