技術(shù)編號：2684683
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種光學(xué)加工系統(tǒng)和加工方法，尤其是一種具有位置補償功能的光學(xué)加工系統(tǒng)和加工方法。背景技術(shù)模版投影光學(xué)加工系統(tǒng)，是一種通過投影光路，將光學(xué)模版投射到加工表面的一定區(qū)域上進行曝光的系統(tǒng)。光學(xué)模版是指具有特定光學(xué)圖形或者特定光學(xué)結(jié)構(gòu)的光學(xué)元器件?？梢允峭干涫胶头瓷涫焦鈱W(xué)器件(如制作好圖形的鉻版掩膜)，衍射光學(xué)器件(如透射光柵、位相板等二元光學(xué)器件)，折射器件(如微透鏡陣列、分光棱鏡)，還可以是顯示任意圖形的空間光調(diào)制器，以及它們的組合搭配。投影光路是對...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。