技術編號：2684167
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種去除光學元件上沉積物的方法、一種光學元件的保護方法、一種器件制造方法、一種包括光學元件的設備、以及光刻設備。背景技術光刻設備是一種將所需的圖形施加到襯底上，通常施加到襯底的目標部分上的機器。例如，光刻設備可用于制造集成電路(ICs)。在這樣的實例中，還被稱為掩?；蚬饪贪娴膱D形化工具可用于生成待形成在IC的各層上的電路圖形。該圖形可被轉印到襯底(例如硅晶片)上的目標部分(例如包括一個或幾個芯片的部分)上。圖形的轉印一般通過在提供在襯底上的輻射敏...
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