技術(shù)編號(hào)：2683473
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及楔形膜制作的，特別涉及。背景技術(shù)現(xiàn)有技術(shù)1 采用鍍介質(zhì)膜的方法制作楔形膜。該方法的工藝過(guò)程是首先，在光學(xué)基板上鍍制半透半反膜，然后在半透半反膜上鍍楔形介質(zhì)膜，最后在介質(zhì)膜上鍍一層半透半反膜，從而形成斐索干涉儀中的楔形膜。該方法的缺點(diǎn)是一、鍍厚度在5μπι-40μπι間線性變化的介質(zhì)膜，其控制難度大，成功率低；二、厚度較厚的介質(zhì)膜由鍍膜機(jī)的真空環(huán)境中取出時(shí)，在空氣中受到濕度和內(nèi)應(yīng)力的影響，容易產(chǎn)生褶皺而損壞；三、鍍制介質(zhì)膜的設(shè)備昂貴，鍍40 μ m...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。