技術(shù)編號：2682129
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。可擦除的離子注入的光耦合器領(lǐng)域本公開涉及光電路制造領(lǐng)域，具體涉及可擦除的輸入和輸出耦合器在光學(xué)組件和電路中的應(yīng)用。背景技術(shù)集成光子產(chǎn)品包括濾波器、分插復(fù)用器、反射器以及用于光通信、光互連以及光感測的許多其它光學(xué)和光子器件。集成器件可構(gòu)建為多層，其中下層器件首先構(gòu)建，且更多器件被構(gòu)建下層器件上方。在微電子學(xué)中，在更多器件被層疊上去之前，可對下層上的器件進(jìn)行測試。許多微電子設(shè)計包括接觸墊，以允許測試探頭與部分完工的晶片進(jìn)行電連接。如果電路未良好工作，則對其進(jìn)行...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。