技術(shù)編號(hào)：2673785
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是有關(guān)于將曝光用屏蔽(mask)(以下稱“屏蔽”)的圖案曝光于感光材的曝光方法及裝置，尤其是有關(guān)于在制造半導(dǎo)體集成電路、液晶顯示裝置、撓性印刷電路基板等的光蝕刻(photolithography)制程所用的曝光技術(shù)，以及適用于作為印刷制版用掃描裝置、電子復(fù)印裝置等所用的曝光技術(shù)的曝光方法及裝置。背景技術(shù) 在用于例如半導(dǎo)體集成電路、液晶顯示裝置等的制造過程之一的光蝕刻制程中的曝光裝置上，有一種采用成像光學(xué)系統(tǒng)而將屏蔽的圖案曝光于感光材的投影曝光裝置。舉...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。