技術(shù)編號：2673678
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種集成電路或其它微型器件制造領(lǐng)域的光刻裝置，尤其涉及。背景技術(shù)現(xiàn)有技術(shù)中，中國專利CN200510112114.6公開了一種同軸對準(zhǔn)信號采集及處理控制方法及關(guān)鍵子系統(tǒng)，文中提到采用光強(qiáng)探測器探測掩模標(biāo)記成像。美國專利US20110090476A1文中提到工件臺上布置有2個IAS (成像對準(zhǔn)探測器)，實現(xiàn)同軸對準(zhǔn)。在實際的光刻設(shè)備中，掩模對準(zhǔn)探測器除了用于對準(zhǔn)，還可以用于物鏡、像質(zhì)或系統(tǒng)參數(shù)測量和校準(zhǔn)。而隨著光刻設(shè)備對套刻精度及對準(zhǔn)測量精度要求越...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。