技術(shù)編號：2476693
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及記錄介質(zhì)。 背景技術(shù)作為調(diào)節(jié)基材(substrate)上具有墨接受層的記錄介質(zhì)的表面光澤度的方法，已知控制記錄介質(zhì)的表面粗糙度的方法。日本專利申請公開No. 2000-355160記載了表面的中心線平均粗糙度(高度)為0.8 4!11-4.(^111并且60°鏡面光澤度為10%-30%的記錄介質(zhì)。日本專利申請公開No. 2001-347748記載了表面的中心線平均粗糙度為0. 4 μ m-2. 5 μ m 并且10點平均粗糙度為中心線平均粗糙度的...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。