技術(shù)編號：2444758
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明提供具有良好的阻氣性且不需要大型設(shè)備、大量的工序，能夠簡便并且低成本地制造，即便在250℃以上進行熱處理也具有良好的物性的。所述包括在由具有特定結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元的聚酰亞胺形成的透明聚酰亞胺薄膜的至少一側(cè)的面上涂布包含聚硅氮烷的溶液之后，在180℃以上的溫度下進行焙燒從而層疊硅氧化物層的工序。專利說明[0001]本發(fā)明涉及，特別是涉及具有良好的阻氣性并且不需要大型設(shè)備、大量的工序、且能夠以簡便并且低成本地制造的。背景技術(shù)[0002]顯示器用基板等電子裝置...
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