技術(shù)編號(hào)：1476142
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造，特別涉及一種熱氧化爐管(Oxidation Furnace )設(shè)備的爐管清洗方法和系統(tǒng)。技術(shù)背景半導(dǎo)體制造工藝主要是進(jìn)行多次光刻工藝、刻蝕工藝和成膜工藝等， 在半導(dǎo)體晶片表面堆疊出有特殊結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體元件。其中，成膜工藝普遍采用熱氧化法、化學(xué)氣相淀積(CVD)工藝，用于形成各種薄膜。其 中，熱氧化法主要是爐管熱氧化法，將反應(yīng)氣體通入高溫爐管內(nèi)后，使 反應(yīng)氣體和爐內(nèi)的半導(dǎo)體晶片發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，在晶片表面沉積一層薄膜。該工藝用于生長(zhǎng)Si02、...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。