技術編號：1405995
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明有關一種，且特別是有關一種以連續(xù)流體于低壓狀態(tài)下清洗反應器且利用此清洗后的。背景技術 現(xiàn)今半導體產業(yè)發(fā)達，除了在半導體相關產品的品質要求標準高，對于如何降低生產成本以獲得最高利潤亦為半導體產業(yè)的目標。半導體相關產品，例如晶片，需經由一反應器裝置，例如一反應爐管，以執(zhí)行晶片表面沉積制作工序，例如低壓化學氣相沉積(Low Pressure Chemical Vapor Deposition，LPCVD)制作工序。因此，芯片的品質與反應爐管的控管息息相關。...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。