技術編號：12823429
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種陣列光斑的產生方法及裝置，特別是一種具有三維陣列結構的、每個光斑位置可調的、光斑為空心結構的陣列光斑，可用于陣列光鑷、超分辨顯微成像與超分辨納米光刻領域。背景技術所謂空心光斑，即為光束聚焦后的光斑中心是一個暗核，此處的光強為零。在光鑷技術、高分辨率成像以及高密度光存儲等領域都需要空心光斑，例如在光鑷領域，具有軸向區(qū)域零光強的空心光斑減弱了光散射力，因此不僅可以用來捕獲“高折射率”的微粒子，而且也可以捕獲“低折射率”的微粒子或生命細胞等；在超分辨顯微成像領域，特別是在受激發(fā)射損耗顯微...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。