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技術(shù)編號(hào)：12809721

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種化學(xué)機(jī)械拋光終點(diǎn)檢測(cè)裝置。背景技術(shù)集成電路制造所需的化學(xué)機(jī)械拋光(chemicalmechanicalpolishing，簡(jiǎn)稱(chēng)CMP)設(shè)備中，通常需要配備終點(diǎn)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)(EndPointDetector，簡(jiǎn)稱(chēng)EPD)，以增加工藝窗口，更有效地控制工藝。目前CMP系統(tǒng)中EPD裝置工作原理主要有光學(xué)、渦流、驅(qū)動(dòng)馬達(dá)電流、溫度、生成物等方式；其中最常用、也是最有效的是光學(xué)檢測(cè)方式，其通過(guò)檢測(cè)晶圓表面反射光的變化來(lái)跟蹤工藝進(jìn)程，判斷工藝終點(diǎn)。相關(guān)的CMP終點(diǎn)檢測(cè)裝置采...
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