技術(shù)編號:12485630
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種半導(dǎo)體器件及其制造方法,尤其是涉及GaN基高功率、高電子遷移率半導(dǎo)體晶體管器件。背景技術(shù)GaN基III-V族氮化物寬帶隙半導(dǎo)體在藍(lán)光和紫外光電子學(xué)領(lǐng)域占有重要地位,同時也是制造高溫大功率半導(dǎo)體器件的重要材料。目前GaN基的藍(lán)光/紫外光發(fā)光二極管和激光器都已經(jīng)產(chǎn)品化,在電學(xué)器件如FETs,HBTs,MOSFETs方面的研究也有了重大的進(jìn)展。盡管寬帶隙、高熱導(dǎo)率和高飽和電子速度等優(yōu)良的特性給III-V族氮化物在高溫電子器件應(yīng)用方面開辟了廣闊的應(yīng)用前景,但是II...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。