技術(shù)編號(hào):12464710
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光學(xué)檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種干涉測(cè)量中成像畸變的標(biāo)定方法及標(biāo)定系統(tǒng)。背景技術(shù)現(xiàn)代光刻技術(shù)要求光刻物鏡系統(tǒng)中的平面、球面、非球面等光學(xué)元件的面形誤差的均方根值達(dá)到亞納米量級(jí),因此光刻物鏡系統(tǒng)對(duì)光學(xué)元件面形加工和絕對(duì)檢測(cè)技術(shù)提出了極高的要求。為了實(shí)現(xiàn)光學(xué)元件面形的亞納米加工精度,在光學(xué)元件面形誤差絕對(duì)檢測(cè)技術(shù)實(shí)現(xiàn)亞納米檢測(cè)精度的基礎(chǔ)上,必須精確標(biāo)定用于面形誤差檢測(cè)的干涉測(cè)量中成像畸變,否則含有成像畸變的面形誤差檢測(cè)結(jié)果在指導(dǎo)光學(xué)元件面形精修過(guò)程中會(huì)引入坐標(biāo)映射誤差,從而降低光學(xué)元件面形的...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。