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半導(dǎo)體工藝中去除殘余物質(zhì)的方法與流程技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):12369663

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體生產(chǎn)和加工領(lǐng)域,更具體的說(shuō),涉及一種半導(dǎo)體工藝中去除殘余物質(zhì)的方法。背景技術(shù)隨著半導(dǎo)體技術(shù)的持續(xù)發(fā)展,半導(dǎo)體硅片的結(jié)構(gòu)已變得非常復(fù)雜,但多樣化的半導(dǎo)體加工手段同樣也層出不窮,為人們提供了進(jìn)一步提高半導(dǎo)體產(chǎn)品品質(zhì)的有效途徑。在一些半導(dǎo)體刻蝕工藝中,含氟(F)的刻蝕劑與硅片中的含鈦(Ti)的半導(dǎo)體層結(jié)構(gòu)相接觸并發(fā)生反應(yīng),很容易產(chǎn)生一些副產(chǎn)物附著于硅片的表面,比如TiF4。TiF4這種殘余物質(zhì)比較頑固,且肉眼幾乎難以察覺(jué),如果對(duì)這些殘存的TiF4不加處理,會(huì)影響后續(xù)工藝,導(dǎo)致半導(dǎo)體器件...
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