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集成電路冷卻陣列的制作方法與工藝技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:12167741

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本發(fā)明涉及一種集成電路冷卻陣列,優(yōu)選地用于微處理器或冷卻裝置,其由基板組成,所述基板具有摻雜和識別區(qū)域,用于實現(xiàn)由至少一個熱電組件形成冷卻陣列。此外,在基板上或在基板內(nèi)至少可以形成微電子組件,所述微電子組件通過集成電路冷卻陣列冷卻。背景技術(shù)集成電路,優(yōu)選地用于實現(xiàn)微處理器,通常由金屬層、半導(dǎo)體層或電介質(zhì)層的復(fù)雜設(shè)置組成,其在由電介質(zhì)組成的基板上以特定布局和形成順序設(shè)置。由于半導(dǎo)體技術(shù),在非常狹小的空間內(nèi),存在實現(xiàn)電子電路的選擇,其包括用于層組成和摻雜的不同方法。隨著使用這些方法,明確定義厚度和明...
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