技術編號：12166430
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及矩形閘真空閥、其工作方法及具有其的半導體制造裝置，更具體地涉及如下的矩形閘真空閥及其工作方法及具有其的半導體制造裝置：可在相同的空間內實現(xiàn)對兩側閘的密封(sealing)工作，因此可有效地對應于需要在限定的空間內進行兩側閘的密封的半導體工序。背景技術由于半導體需要高精度，因此在具有高清潔度的潔凈室(cleanroom)中通過特殊的制造技術來進行制造。當制造半導體時，由于真空作業(yè)區(qū)域和大氣區(qū)域的密封技術也對半導體的品質帶來多的影響，因此，通常在可最完全阻隔與包含于空氣中的異物相接觸的真空...
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