技術(shù)編號：11735232
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻機(jī)，特別是一種光刻機(jī)原位多通道成像質(zhì)量檢測裝置及方法。背景技術(shù)光刻機(jī)是極大規(guī)模集成電路制造的核心設(shè)備之一。投影物鏡是光刻機(jī)最重要的分系統(tǒng)之一。投影物鏡的成像質(zhì)量是決定光刻線條質(zhì)量的關(guān)鍵因素之一。隨著光刻節(jié)點(diǎn)向1xnm分辨率以下發(fā)展，要求產(chǎn)率達(dá)到250wph。產(chǎn)率的提高造成光刻機(jī)掩模熱效應(yīng)和投影物鏡熱像差，影響光刻機(jī)套刻精度和投影物鏡成像質(zhì)量。要求能夠?qū)崟r測量光刻系統(tǒng)的畸變、場曲及波像差。一般光刻機(jī)采用不同的傳感器檢測畸變、場曲及波像差參數(shù)。畸變和場曲參數(shù)通過光刻機(jī)對準(zhǔn)系統(tǒng)的掃描實(shí)現(xiàn)...
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