技術(shù)編號：11628222
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及襯底處理裝置及半導(dǎo)體器件的制造方法。背景技術(shù)作為在半導(dǎo)體器件的制造工序中使用的襯底處理裝置的一個方案，例如具有枚葉式的裝置，其利用噴頭來均勻地進(jìn)行氣體向襯底處理面的供給。更詳細(xì)而言，在枚葉式的襯底處理裝置中構(gòu)成為，用加熱器加熱襯底載置面上的襯底，同時一邊從配置在襯底載置面的上方的噴頭通過位于該噴頭與襯底載置面之間的分散板使氣體分散，一邊進(jìn)行氣體向襯底載置面上的襯底的供給，由此對襯底進(jìn)行處理(例如參照專利文獻(xiàn)1)。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1：日本特開2015-105405號公報發(fā)明內(nèi)...
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