技術(shù)編號(hào)：11583666
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種鍍膜用的石英塊。背景技術(shù)眾所周知，鍍膜工藝在工業(yè)界的應(yīng)用極廣，一般常使用在金屬加工業(yè)、半導(dǎo)體業(yè)以及光電產(chǎn)業(yè)等。近幾年來，又由于半導(dǎo)體業(yè)與光電產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，使得鍍膜技術(shù)又有重大的進(jìn)展。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜簡稱為蒸鍍，通常將薄膜材料由固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)或離子態(tài)，氣態(tài)或離子態(tài)的材料由蒸發(fā)源穿越空間，抵達(dá)基本表面，材料抵達(dá)基板表面后，將沉積而逐漸形成薄膜。目前蒸發(fā)鍍膜采用的方法是在一個(gè)圓形的大基盤中間設(shè)置一個(gè)圓形的凹槽，再將與凹...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。