技術(shù)編號(hào)：11477446
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于載置基板的基板載置臺(tái)和使用其的基板處理裝置。背景技術(shù)在平板顯示器(FPD)的制造過(guò)程中，對(duì)被處理基板進(jìn)行蝕刻、濺射、CVD(化學(xué)氣相沉積)等的處理。作為實(shí)施這樣的處理的基板處理裝置已知有在配置于腔室(處理容器)內(nèi)的基板載置臺(tái)載置被處理基板，在將處理容器內(nèi)保持為真空的狀態(tài)下，在腔室內(nèi)生成等離子體來(lái)對(duì)被處理基板實(shí)施等離子體處理的裝置。作為這樣的基板處理裝置的基板載置臺(tái)，已知有具有基體和設(shè)置在其之上的靜電吸盤(pán)的基板載置臺(tái)。靜電吸盤(pán)包括由陶瓷噴鍍覆膜形成的電介質(zhì)層和設(shè)置在其中的吸附電極，通...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。