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技術(shù)編號：11470573

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本發(fā)明屬于Ⅲ族氮化物薄膜和器件制造領(lǐng)域，特別涉及聚酰亞胺襯底上的氮化鎵基薄膜及其制備方法，具體是以聚酰亞胺(Polyimide，PI)為襯底，首先使用電子回旋共振-等離子體增強金屬有機物化學(xué)氣相沉積(ECR-PEMOCVD)方法在聚酰亞胺襯底上依次制備第一氧化硅層、氮化硅層、第二氧化硅層，接著使用磁控濺射方法在第二氧化硅層上制備Ni層，然后使用ECR-PEMOCVD方法在Ni層與第二氧化硅層的界面上制備石墨烯層，再使用濕法腐蝕方法去除Ni層，最后使用ECR-PEMOCVD方法在石墨烯層上依次制備...
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