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技術(shù)編號：11464389

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本發(fā)明涉及一種能夠均勻地處理基板的基板處理裝置。背景技術(shù)基板處理裝置在制造平板顯示器時使用，大致分為沉積（VaporDeposition）裝置和退火（Annealing）裝置。沉積裝置是用于形成構(gòu)成平板顯示器的核心結(jié)構(gòu)的透明導(dǎo)電層、絕緣層、金屬層或硅層的裝置，有諸如低壓化學(xué)氣相沉積（LPCVD、LowPressureChemicalVaporDeposition）或等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD、Plasma-EnhancedChemicalVaporDeposition）等化學(xué)氣相沉積裝...
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