技術編號：11441176
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。流體處理結構、光刻設備和器件制造方法相關申請的交叉引用本申請要求在2014年12月19日提交的EP申請14199085.3的優(yōu)先權，該申請以全文引用的方式并入到本文中。技術領域本發(fā)明關于一種流體處理結構、一種光刻設備和一種用于使用光刻設備制造器件的方法。背景技術光刻設備為將所希望的圖案施加至襯底上(通常至襯底的目標部分上)的機器。光刻設備可用于(例如)集成電路的制造中。已提出在光刻投影設備中將襯底浸沒于具有相對高折射率的液體(例如，水)中，以便填充投影系統(tǒng)PS的最終元件與襯底之間的空間。在實施例...
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