技術(shù)編號(hào):11422620
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及帶電粒子束顯微鏡領(lǐng)域,尤其涉及一種均勻恒定熱損耗磁透鏡。背景技術(shù)對(duì)于電磁透鏡,通常是通過(guò)改變激勵(lì)線圈中的電流來(lái)改變電磁透鏡的聚焦特性;但是,由于激勵(lì)線圈具有一定的電阻,因此,在激勵(lì)線圈中的電流發(fā)生改變時(shí),電磁透鏡的溫度也發(fā)生變化;溫度的變化會(huì)導(dǎo)致導(dǎo)磁殼體和透鏡極靴等結(jié)構(gòu)的熱變形和導(dǎo)磁材料的磁導(dǎo)率發(fā)生變化,進(jìn)而影響電磁透鏡的磁場(chǎng)分布,如:磁透鏡結(jié)構(gòu)的熱變形會(huì)導(dǎo)致磁場(chǎng)分布不均勻,導(dǎo)磁材料的磁導(dǎo)率的變化會(huì)影響磁場(chǎng)強(qiáng)度的大小等。為了控制電磁透鏡因發(fā)熱引起的溫度變化,第一種解決方案是使用水冷...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。